23Apr2026
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European CMP&Wet User Group Meeting Spring 2026

European CMP & WET User Group Community

Treffpunkt für CMP- und Wet‑Processing‑Expert:innen!


Das European CMP & WET User Group Spring Meeting 2026 findet am 23.–24. April 2026 in Halle (Deutschland) statt und gilt als zentrale Plattform für den fachlichen Austausch rund um Chemical Mechanical Polishing (CMP) und Wet Processing. Freuen Sie sich auf praxisnahe Fachvorträge, intensive Diskussionen und wertvolle Einblicke in aktuelle Herausforderungen und Innovationen der Halbleiter‑ und MEMS‑Fertigung.

Nutzen Sie diese einzigartige Gelegenheit, Ihr Know-how zu vertiefen und Ihr internationales Netzwerk gezielt auszubauen.

Programm/Ablauf

23. April 2026

12:30 Uhr - 13.30 UhrArrival & Welcome
13:30 Uhr - 15:30 UhrTechnical Session
15:30 Uhr - 16:00 UhrNetworking Break & Exhibition
16:00 Uhr - 18:00 UhrTechnical Session
18:00 Uhr - 19:00 UhrNetworking & Exhibition
19:00 UhrNetwork Dinner

24. April 2026

08:30 Uhr - 09:00 UhrWelcome Coffee
09:00 Uhr - 10:30 UhrTechnical Session
10:30 Uhr - 11:00 UhrNetworking Break & Exhibition
11:00 Uhr - 13:30 Uhr

Technical Session

13:30 Uhr - 14:30 UhrLight Lunch

 

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